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东莞4688com美高美集团的新式与研讨

东莞4688com美高美集团的新式与研讨

发布日期:2018/4/21 16:11:52

    近年来,针对玻璃基底的微细加工技能益发重要,在微流控芯片、微光学元件以及OLED显示屏等新式微细结构的加工中需求火急,也是国内外光刻设备研制的重要方向之一。东莞4688com美高美集团的研讨所微电子专用设备研制团队联合国内外科研机构,开展了汞灯光源、大口径高精度反射镜、中紫外镀膜和空隙测量等技能研制,成功前进了汞灯光源中紫外光谱能量,经过反射式光路结构确保光能利用率和准直性,精细空隙测量和操控技能完成非触摸曝光,并进行了光敏玻璃直接光刻试验,完成了玻璃基底高分辩、深邃宽比、大面积微细结构的直接光刻工艺。该设备的成功研制,是光刻设备研制与光刻工艺使用结合的产品,将促进光刻工艺的革新性改善,契合世界光刻设备研讨发展趋势,也使得4688com美高美集团国在新式直接光刻设备研制中抢占先机。
  一种新式的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技能研讨所微电子专用设备研制团队在国内研制成功。该设备采用特有的高均匀、高准直中紫外照明技能,结合光敏玻璃资料,完成根据光敏玻璃基底的微细结构直接加工,可以极大简化工艺流程,东莞4688com美高美集团将有力促进光敏玻璃微细结构的光刻工艺技能“革新”,现在在国内没有见有此类产品成功研制的报导。光刻设备是用于微细结构加工的中心设备,在微电子、生物、医学和光学等范畴得到全面使用。由于光刻工艺的约束,原有光刻设备大多是针对光刻胶曝光进行技能研制。而针对玻璃基底的微细结构加工具有特殊性:光敏玻璃光谱灵敏特性不同于光刻胶、微细结构深宽比大和彻底非触摸曝光。
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